Fotolitografija koristi tri osnovna koraka procesa za prijenos uzorka s maske na oblatnu: premazati, razviti, izložiti. Uzorak se prenosi u površinski sloj oblatne tijekom naknadnog procesa. U nekim slučajevima, uzorak otpornosti također se može koristiti za definiranje uzorka za taloženi tanki film.
Što je fotolitografija Kako radi?
fotolitografija je proces uzorkovanja u kojem se fotoosjetljivi polimer selektivno izlaže svjetlosti kroz masku, ostavljajući latentnu sliku u polimeru koja se zatim može selektivno otopiti kako bi se dobio uzorak pristup temeljnom supstratu.
Zašto se koristi fotolitografija?
Fotolitografija je jedna od najvažnijih i najjednostavnijih metoda mikrofabrikacije i koristi se za stvaranje detaljnih uzoraka u materijalu. U ovoj metodi, oblik ili uzorak može se urezati selektivnim izlaganjem polimera osjetljivog na svjetlost ultraljubičastom svjetlu.
Zašto se UV svjetlo koristi u fotolitografiji?
Fotolitografija omogućuje 3D inkapsulaciju stanica unutar hidrogelova umrežavanjem prepolimera koji sadrži stanicu pod UV svjetlom. Fotomaska se koristi za dobivanje željenog uzorka [88].
Koji su zahtjevi za fotolitografiju?
Općenito, proces fotolitografije zahtijeva tri osnovna materijala, izvor svjetlosti, foto masku i fotootpor. fotorezist, fotoosjetljivi materijal,ima dvije vrste, pozitivnu i negativnu. Pozitivni fotorezist postaje topljiviji nakon izlaganja izvoru svjetlosti.
Photolithography: Step by step
