U neuravnoteženom raspršivanju Magnetrona, plazma se također povlači u podlogu, a ioni argona također bombardiraju rastući tanki film. … Prisutnost elektrona oko supstrata dovodi do ionizacije atoma neutralnog plina i prodora plazme u ovo područje.
Zašto magnetron raspršuje?
Magnetronsko raspršivanje koristi zatvoreno magnetsko polje za hvatanje elektrona, povećavajući učinkovitost inicijalnog procesa ionizacije i stvarajući plazmu pri nižim tlakovima, smanjujući i inkorporaciju pozadinskog plina u rastućem gubici filma i energije u raspršenom atomu zbog sudara plina.
Što se može primijeniti za magnetronsko raspršivanje?
5 Taloženje magnetronskim raspršivanjem. Magnetronsko raspršivanje je tehnika vakuumskog prevlačenja visoke brzine koja omogućuje taloženje mnogih vrsta materijala, uključujući metale i keramiku, na što više vrsta supstratnih materijala upotrebom posebno oblikovanog magnetskog polje primijenjeno na metu za raspršivanje diode.
Što je neuravnoteženo magnetronsko raspršivanje zatvorenog polja?
Sustav zatvorenog polja neuravnoteženog ionskog raspršivanja magnetrona, razvijen od strane Teer Coatings Ltd, proizvodi optimizirane uvjete taloženja omogućujući taloženje gustih, tvrdih premaza s izvrsnom adhezijom. CFUBMSIP aranžman pokriven je patentima dodijeljenim Teer Coatings Ltd.
Što je neuravnoteženi magnetron?
Magnetroni se obično klasificiraju kao 'uravnoteženi' ili 'neuravnoteženi'. … Ako je nulta točka blizu ciljne površine, elektroni mogu lakše pobjeći i magnetron je neuravnotežen. Neuravnoteženi dizajni mogu proizvesti visoko ionsko bombardiranje tankog filma u isto vrijeme kao i taloženje.